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設備展示

外型尺寸		2.02.02.5米
有效鍍膜空間		590*400毫米
抽氣系統		分子泵+機械泵
電源		50KW,380V,50HZ,3PHASE
偏壓		高頻脈沖電源
靶源數	4,磁控濺射 1~3,離子源 1~3
控制系統	可編程控制器+電腦
鍍膜工藝溫度	80～180度
典型涂層	濺射TiN氮化鈦，濺射CrN氮化鉻，DLC類金剛石等等單層，復合，納米涂層