PVD材料、技術問答
2022-04-24 11:13
一鍵分享
1.什么是PVD？
PVD是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)，指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程
2.什么是CVD?
CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相沉積)，指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在基材表面發生化學反應生成薄膜的過程
3.PVD的優點是什么？
PVD物理氣相沉積方法工藝溫度低，通常涂層的沉積溫度為450度℃，沒有任何污染的一種環保表面處理方法，為世界發達國家所推崇。
4.PVD的適用范圍是什么？
目前大家所接觸的通常有以下幾類，光學鍍膜（鏡片，玻璃等）、裝飾鍍膜、功能鍍膜等、每個行業的涂層要求是不一樣的，評判標準也不一樣。
5.PVD的常用方法有哪些？
PVD通常的方法有：蒸發，濺射，電弧等方法，每種方法各有特點，如濺射方法顆粒細，缺陷少但結合不佳，電弧方法顆粒大，結合力好，但顆粒較粗，表面缺陷較多如液滴。
6.勝倍爾的PVD方法是什么？
我司用的是增加磁控濺射、磁控陰極弧和離子束相結合的方法。
7. 勝倍爾的PVD工藝溫度是多少？
我司根據客戶產品的不同，涂層工藝溫度從60度℃～250℃度
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